НОВОСТИ
Новый класс гетероструктур AlGaAs/GaAs
выращенных методом МОС-гидридной эпитаксии. Читайте статью в журнале Crystals v.9, 2019
ПодробнееXIV Российская конференция по физике полупроводников в сентябре
Наши коллеги примут участие в конференции и представят ряд докладов
ПодробнееСравнительный анализ квантовых ям GaAs/GaInP и GaAs/AlGaAs
полученных в условиях МОС-гидридной эпитаксии. Читайте в журнале «Неорганические материалы», том 55, №4, 2019
Подробнее«Сигм плюс» на 18-м европейском семинаре EW-MOVPE 2019, Литва
Наши специалисты примут участие в международном семинаре по газо-фазной эпитаксии EW-MOVPE, которая пройдет в Вильнюсе с 16 по 19 июня
Подробнее"Сигм плюс" и CS Clean Solutions AG приглашают на выставку SEMIEXPO
Выставка пройдет 14-15 мая в Экспоцентре на Красной Пресне, Павильон 7. Встречаемся на стенде В12
ПодробнееEpiX - модульная система исследования полупроводниковых пластин
Система 2D картирования пластин EpiX для научно-исследовательских разработок в области полупроводниковой эпитаксии
ПодробнееXXIII международный симпозиум «Нанофизика и наноэлектроника» в марте
Наши коллеги примут участие в работе симпозиума и представят свои результаты
ПодробнееОценка условий труда по ФЗ № 426
Компания "Сигм плюс" провела обязательную оценку условий труда рабочих мест
Подробнее
О компании |
|
История Компания "Сигм плюс" создана в 1991г. как коллектив специалистов в области производства полупроводниковых эпитаксиальных гетероструктур методом МОС-гидридной (MOCVD) эпитаксии. Это время прихода в упадок отечественной микроэлектроники и оптоэлектроники в частности. Необходимо было решать не только технологические задачи создания новых эпитаксиальных структур, но и постоянно совершенствовать аппаратное оформление, в те годы еще молодого и бурно развивающегося метода МОСГЭ (MOCVD). В первую очередь хотелось сохранить тот технологический опыт, который нарабатывался годами, и не отстать от зарубежных фирм, ведущих разработки в этой области. Этим объясняется, что в небольшую группу энтузиастов MOCVD влились специалисты по моделированию и автоматизации технологических процессов, программированию, разработке и внедрения новых технологий. Благодаря этому удалось не только сохранить и преумножить технологический потенциал компании, но и создать принципиально новые типы технологического оборудования, по своим характеристикам не уступающего мировым аналогам. Одним из судьбоносных решений для развития компании было привлечение для создания собственного технологического оборудования комплектующих ведущих мировых производителей. Высокое качество и надежность их определило долговечность и высокие технические характеристики приборов и аппаратов наших разработок. Многие из этих компаний в дальнейшем стали нашими надежными партнерами в бизнесе. Направления
|
|
EPIX - МОДУЛЬНАЯ СИСТЕМА ИССЛЕДОВАНИЯ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПЛАСТИН
Система 2D картирования пластин EpiX для научно-исследовательских разработок в области полупроводниковой эпитаксии
Подробнее