eng

НОВОСТИ

Все новости

LAYTEC - ПРОГРАММНОЕ ОБЕСПЕЧЕНИЕ

EpiSense

Программное обеспечение EpiSense входит в стандартную комплектацию всех версий сенсоров EpiRAS и EpiR производства LayTec. Программа имеет удобный графический интерфейс и позволяет осуществлять полный контроль оптического сенсора, а также облегчает процесс юстировки. Программное обеспечение совместимо с операционными системами Windows 98, 2000 и ХР.

Программа EpiSense поддерживает измерения как неподвижных, так и вращающихся образцов в реакторах на одну или несколько пластин (таких как реакторы фирмы Aixtron планетарного типа). Возможно проведение выборочных измерений по пластинам, что дает очень важную информацию о скорости роста, составе и уровне легирования для каждой пластины в отдельности. Также можно отслеживать в реальном времени однородность пластин.

По желанию заказчика в программе могут быть реализованы различные уровни доступа для пользователей (от оператора до опытного пользователя) с разным диапазоном доступных функций. Программное обеспечение позволяет осуществлять удаленный контроль работы сенсора посредством локальной сети. С помощью этой опции компьютерная система управления эпитаксиальным процессом может проводить измерения и корректировать режимы роста.

Примеры:

 

Калибровка EpiR	Процесс роста и спектр GaN	Сканирование подложкодержателя

 

EpiTT

Программное обеспечение для управления сенсором EpiTT разработано так, чтобы соответствовать промышленным нуждам в условиях массового производства. Оно предназначено для круглосуточной работы и может использоваться оператором. Все важные операции (начало или конец измерений, анализ измеренных данных в реальном времени) могут контролироваться дистанционно. Для опытных пользователей программа может работать в полнофункциональном режиме, включающем больше функций и возможностей.

Программное обеспечение EpiTT может подключаться по протоколу TCP/IP к другим компьютерам (например, к компьютеру, контролирующему ростовой процесс). Основанный на ASCII протокол позволяет обмениваться данными с удаленным компьютером в реальном времени. Этот протокол может использоваться для удаленного управления измерениями EpiTT с помощью рецепта эпитаксиального роста. Кроме того, в качестве альтернативы доступен простой аппаратный интерфейс.

Внешний модуль "EpiTT-inspect" используется для отображения и анализа данных после окончания роста. Он может быть установлен на офисный компьютер. Данные легко экспортируются в любое приложение (Excel, Origin). С помощью модуля ростового анализа можно рассчитать скорость роста и состав слоев.

Примеры: 

Окно калибровки	EpiTT-Inspect - программа для постростового анализа

 

Growth analysis

Модуль ростового анализа встроен в оба программных продукта EpiSense и EpiTT. Он предназначен для различного рода анализа измеренных данных, осуществляемого нескольким кликами мыши.

Его главная задача – определение скорости роста методом наименьших квадратов (МНК). Модуль оснащен полной базой данных по полупроводниковым материалам и часто используемым материалам подложек (в том числе InP, GaAs, SiC, сапфир, Si, Ge). В этой базе содержатся спектроскопические данные с учетом температурной зависимости. При одном цикле расчетов проводится определение показателя преломления, поглощения и скорости роста (аппроксимация по трем параметрам). Если какой-либо из этих параметров известен, его можно исключить из вычислений. Результаты и данные могут легко экспор-тироваться в другие приложения в ASCII формате.

При работе с несколькими подложками анализ может проводиться для любой выбранной пластины. В специальном «групповом» режиме, одинаковые вычисления для всех подложек запускаются одновременно одним кликом мыши.

Для повторения идентичной процедуры расчетов с разными данными можно создавать «профиль анализа», содержащий полную информацию по всем параметрам, определяющими путь автоматического анализа данных для нескольких подложек.

 

Результат аппроксимации	Определение скорости роста в реальном времени

 

Расчеты в модуле ростового анализа проводятся с помощью многослойной системы моделирования AnalysR, охватывающей все оптические применения от простых систем типа эпитаксиальный слой - подложка до таких сложных многослойных структур, как VCSEL, от тонких слоев нанометровой толщины до толстых подложек с толщинами в сотни микрометров, от изотропных до анизотропных материалов, от таких стандартных систем материалов, как GaAs или InP, до самых передовых материалов с температурной и стехиометрической зависимостями.

 

Окно програмы AnalysR во время интерактивного ростового анализа: скорость роста AlAs на GaAs точно определяестся из совокупности анализа во время роста  зависимости от времени отражательной способности (цветная карта - при температуре роста) и постростовой эллипсометрии.

 

Для опытных пользователей сенсоров реального времени система моделирования AnalysR (включая гибкий пользовательский интерфейс) может поставляться как в комплексе, так и в качестве отдельного продукта для более детального и углубленного анализа. Она также позволяет проводить моделирование и расчеты для спектроскопических данных, определять оптические константы или анализировать шероховатость поверхности или гетероинтерфейсов.

вверх